超純氣體處理
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過程簡述

 

半導體工業用的超純氣體有氫、氧、氮、氬、氦、氨、二氧化銨、四氧化碳各類氣體氫化物及二元或三元以上的混合氣等,它們大部分 是從空氣、天然氣、石油化工和合成氨廠的殘余氣體中提取后進一步精制得到,根據原料氣來源情況、雜質組份含量、純度要求來選擇相應的制備方法。集成電路發 展到兆位級后,對超凈提出了更嚴格要求,在超純氣體或電子氣體供氣系統中,為了脫除由于振動或氣流沖擊所造成的脫落粒子,在使用氣前須安裝過濾器。
 

問題描述

 

半 導體元件因其高集成化,制作芯片上的電子電路的最小加工線寬度變得更微細,16k位電路線寬、線路間距為4~7微米,而256k位電路為0.8~1.5微 米;這種微細的加工允許的微粒子的最小粒徑是加工尺寸的1/5~1/10,故對于64k位隨機存取記憶,存在0.3微米的粒子會成為問題,對于 256k~1M位隨機存取記憶,某一段存在0.1微米的粒子就會成為問題。在半導體工業生產中, 幾乎各道工序都用到超純氣體, 元件的質量與超純氣體的純凈度密切相關。
 

產品應用

 

深度過濾:
玻璃纖維濾紙
多孔陶瓷
燒結金屬
石棉
毛氈


膜過濾:
金屬孔板(絲網)
Teflon膜
陶瓷膜

 
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